首页 > 产品中心 > 装备
HiPIMS-高功率脉冲磁控溅射.png

HiPIMS-高功率脉冲磁控溅射

DTVC5200

主要应用

高能沉积,,,,提升金属离化率,,,,带来更佳结合力和硬度。。。

高端品质,,不破坏工件或刃口,,涂层表面光洁致密。。

灵活镀膜,,可溅射市面所有常见硬质涂层材料。。。。

高效生产,,,,单炉时间最快4.5h,更经济、、、、更灵活生产。。。

产品颜色

站点地图